イオンエッチングとは、イオン化された原子を対象物へ照射して物理的に加工するドライエッチング技術の一つです。
本装置はイオンビームエッチング装置として、高精度加工や精密エッチングに対応します。
当社では独自のイオンビームエッチング技術を活用し、切削工具や金型、各種部品向けのイオンエッチング装置を開発しています。
除膜処理により基材の再利用が可能となり、コスト削減と資源有効活用に貢献します。

除膜には化学薬品を用いる手法もありますが、除膜する膜種により薬液が異なることや基材へダメージを与えるなどの問題があります。
超硬合金基材に使用する場合、成分であるコバルト(Co)を薬品が溶かし出し、表面を荒らすことから再利用が困難とされていました。

当社のドライエッチング装置は、化学薬品を使用しない環境負荷の低い除膜技術として有効です。
化学薬品を使用しないドライプロセスにより、基材表面へのダメージを最小限に抑えた低ダメージ加工を実現します。
除膜だけでなく、微細バリ除去、先端形状修正、微細加工、ナノ加工などの高精度加工にも対応可能です。

多品種少量生産向けのコンパクトモデルから、高処理能力モデルまでラインアップし、各種ドライエッチング装置用途に対応します。
対象材料や加工内容に応じて、最適なイオンエッチング装置・微細加工装置をご提案します。

AlCrN 系

基材： 超硬合金
膜種： AlCrN (2-3μm)

光学部品エッチングやレンズ金型の精密加工用途。
微細パターン形成前の表面調整工程への活用も期待されます。

微細加工技術を活用し、注射針など精密部品の微細バリ除去に対応します。
均一エッチングによる品質の安定化が期待できます。