バッチ式蒸着+プラズマ重合装置

VCD1800AD
VRD650AD

特長

  • 縦型2枚扉式を採用した真空蒸着装置(PVD蒸着装置)として、生産性向上と作業効率改善を実現。
  • 樹脂基材へのダイレクト蒸着技術と平板対向式放電電極により、低温成膜でありながら高密着膜を実現し、反射膜形成・表面保護膜形成に対応。
  • 電子ビーム蒸着装置で培われた技術を応用した膜厚制御により、安定した薄膜形成とアルミスプラッシュ低減を実現。
  • 真空成膜装置・薄膜形成装置として、光学膜形成、電極形成、バリア膜形成、メタライジングなど多様な成膜プロセスへの展開が期待されます。
  • 将来的にはLiDAR用光学部品、有機EL成膜、全固体電池関連部材、宇宙・スペースチャンバ向け材料開発などの研究開発用途にも応用が期待されます。

仕様

型式 VCD1000AD VCD1300AD VCD1450AD VCD1800AD
基板サイズ
(治具等含む)
φ350×1,200mm 4軸
φ320×1,200mm 5軸
φ400×1,200mm 6軸
φ450×1,200mm 5軸
φ450×1,500mm 6軸
φ500×1,500mm 5軸
φ550×1,500mm 4軸
φ450×1,500mm 8軸
φ550×1,500mm 6軸
型式 VRD650AD VRD750AD
基板サイズ
(治具等含む)
φ540×1,500mm 2軸 φ600×1,500mm 1軸

主な用途

  • 自動車ランプリフレクタや各種内外装部品への反射膜形成、バリア膜形成、表面保護膜形成。
  • 化粧品容器、ミラー部品などへの高密着成膜による反射膜形成。
  • 今後期待される用途として、光学薄膜蒸着、電極膜成膜、多層膜形成、有機EL蒸着、太陽電池蒸着などの高機能デバイス分野。

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