技術情報

技術発表の紹介

当社が発行している「新明和技報」から真空システム製品に関する内容を抜粋しています。

新明和技報

2007年4月発行 「新明和技報 No.29」

論文:大容量超低温冷却装置の開発(P.2~)
新製品紹介:真空排気と反射膜作製時間を短縮した『バッチ式スパッタ・プラズマ重合装置』VRSP900AD(P.23)
新製品紹介:成膜時の基板温度上昇を抑えることのできる『基板冷却機能付真空蒸着装置』VCD1300AD(P.24)

2006年4月発行「新明和技報 No.28」

論文:スパッタ重合装置の生産性向上検討(P.2~)
トピックス:自動開閉扉式蒸着重合装置の開発(P.32)

2005年4月発行「新明和技報 No.27」

巻頭言:『スパッタリング法雑感』
金沢工業大学教授 工学博士 草野 英二(P.1)
論文:イオンアシスト式光学膜用真空蒸着装置の開発(P.2~)

その他バックナンバー

光学式膜厚モニタの開発(2002)

狭帯域透過フィルタ用真空成膜装置の開発(2002)

SPDイオンコータ®における成膜プロセスの開発(2001)

プラズマ重合プロセス成膜装置の開発(1997)

超低温冷却システムの開発(1991発表)

コールドビーム用光学多層膜蒸着技術の研究(1991発表)

光学多層膜用大形連続真空蒸着システムの開発(1989発表)

-150℃超低温冷却システムの開発

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