技術情報
技術発表の紹介
当社が発行している「新明和技報」から真空システム製品に関する内容を抜粋しています。
新明和技報
2007年4月発行 「新明和技報 No.29」
論文：大容量超低温冷却装置の開発（P.2～）
新製品紹介：真空排気と反射膜作製時間を短縮した『バッチ式スパッタ・プラズマ重合装置』VRSP900AD（P.23）
新製品紹介：成膜時の基板温度上昇を抑えることのできる『基板冷却機能付真空蒸着装置』VCD1300AD（P.24）
2006年4月発行「新明和技報 No.28」
論文：スパッタ重合装置の生産性向上検討（P.2～）
トピックス：自動開閉扉式蒸着重合装置の開発（P.32）
2005年4月発行「新明和技報 No.27」
巻頭言：『スパッタリング法雑感』
金沢工業大学教授 工学博士 草野 英二（P.1）
論文：イオンアシスト式光学膜用真空蒸着装置の開発（P.2～）
その他バックナンバー
光学式膜厚モニタの開発（2002）
狭帯域透過フィルタ用真空成膜装置の開発（2002）
SPDイオンコータ®における成膜プロセスの開発（2001）
プラズマ重合プロセス成膜装置の開発（1997）
超低温冷却システムの開発（1991発表）
コールドビーム用光学多層膜蒸着技術の研究（1991発表）
光学多層膜用大形連続真空蒸着システムの開発（1989発表）
-150℃超低温冷却システムの開発
PDFファイルをご覧になるためにはAdobe Readerが必要です。
お持ちでない方は左のアイコンよりダウンロード（無料）してご利用ください。