真空成膜装置用オプション機器

基板回転機構

バッチ式光学多層膜真空蒸着装置用の治具回転装置です。

基板回転機構

特長

  • 耐荷重が大きく、耐久性、メンテナンス性に優れています
  • 回転駆動部が大気中にあるので、ダストの発生が少なくなります
  • リングギア駆動方式に比べ、ドーム径が大きく、回転がスムーズです
  • チャンバ内の駆動部分が少ないので、クリーニングが容易です
  • 3~30rpmの滑らかな高速回転が可能で、良好な膜厚分布が得られます

各種ドーム機構

基板回転機構に装着される基板ドームは、一般的な公転ドームの他に反転機構、自公転機構をオプションでお選びいただけます。いずれも独自のメカニズムにより、高信頼性とクリーン化をお約束します。

公転ドーム

公転ドーム

反転機構

反転機構

自公転機構

自公転機構

自公転・反転機構の特長

  • ホルダーサイズ・角度・軸数が選択可能
  • マスクを使用せず±1%の膜厚分布が可能
  • イオンソース・プラズマソース等も使用可能
  • 各種ドーム機構の入れ替えが短時間で可能
  • ギアを使用していないのでゴミが少なく、長期間安定動作を実現
  • 最大350℃加熱環境でも使用可能