光学薄膜市場向け真空成膜装置

ノンシフト対応IADシステム

VCD1350AD

VCD1350AD

装置概要

VCD1350は帯域フィルタ、エッジフィルタ、 IRカットフィルタ、ARコーティング等のシフトレス光学膜を大面積に均一に生産するためのIAD(Ion Assisted Deposition:イオンビームアシスト式)真空蒸着装置です。

特長

  • φ1,200mmドームに均一なイオン電流密度分布と高電流密度を実現
  • システム「SEVEN」による全自動蒸着
  • 60点モニタガラスチェンジャと高精度光学式膜厚計 FMP2000を搭載
  • 中央導入駆動方式による高速回転基板ドーム

装置概略仕様

真空チャンバ
材質 SUS304
直径 φ 1,350mm相当 × 高さ:1,600mm(内寸)
基板ドーム
φ 1,200mm 中央導入駆動方式
基板ドーム回転速度
6~30rpm(オプション:10~60rpm)
光学膜厚制御
FMP2000VIS(分光器仕様)、波長範囲350nm~1,100nm
多点モニタガラス交換機構:60点(自動交換方式)
水晶膜厚計
XTC-2(インフィコン製)、6点式ロータリセンサ
蒸着源
電子銃:2式
イオンソース
16cmハイパワーRF イオンソース
グリッドサイズ
16cmモリブデン製 3枚グリッド
ビーム電圧
250~1,250V
最大ビーム電流
1,000mA
アクセラレータ電圧
100~1,000V
最大RF出力
1,000W
イオン電流密度分布
±10.0%以内(φ1,200mm基板ドームにおいて)
イオン電流密度
60μA/cm2(φ1,200mm基板ドームにおいて)

分光特性

分光特性グラフ