光学薄膜市場向け真空成膜装置

SPDイオンコータ®

高真空(10-3Pa)でも安定してプラズマを発生し、比較的低温で成膜を可能にした「SPDイオンコータ®」を開発。加熱による変質がなく、従来手法では難しかった樹脂製品に薄膜を作ることを実現。

VCD1300AD

VCD1300 AD

特長

  • 安定させた高真空中(10-3Pa)での成膜が可能
  • 低温から極低温での成膜が可能なため、プラスチック基板への多層膜(例:IRカットフィルター)を実現
  • バイアス効果やマイグレーション効果によって緻密性の高い膜を得ることが可能
  • 加熱成膜と比較し、低消費電力(環境にやさしい)と高い生産性(早いスループット)を実現

装置概略仕様

真空チャンバ
材質 SUS304
直径 φ 1,300mm(内寸)
基板ドーム
φ1,100mm  中央導入駆動方式
基板ドーム回転速度
6~20rpm
光学膜厚制御
FMP2000VIS(分光器仕様)、波長範囲 350nm ~ 1,100nm
多点モニタガラス交換機構:60点(自動交換方式)
水晶膜厚計
XTC-2(インフィコン製)、6点式ロータリセンサ
蒸着源
電子銃2式
イオンプレーティング
SPDイオンプレーティング方式(下記原理図ご参照ください)

主な用途

  • 反射防止膜から多層膜までの光学膜
  • アルミ、銀等の密着性の高い光学ミラー
  • 膜密度が高いため、電気特性に優れた電極膜

原理

原理解説図

分光特性

分光特性グラフ