製品紹介

高周波マグネトロン装置

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技術情報

高周波マグネトロン装置とは

高周波マグネトロン装置は超薄膜のテフロンが成膜できる装置です。
本装置はテフロンの固形材料をターゲットとして、高周波(13.56MHz)を利用したスパッタリング法です。
テフロンは低い摩擦係数を有することから美容系刃物の切れ味(すべり性)向上にも使用されています。
本装置の特長は超薄膜(ナノオーダ)での成膜が可能かつ均一性があることです。
テフロンを含む有機・無機絶縁体の他、金属、グラファイト等の薄膜も可能です。

高周波マグネトロン装置

高周波マグネトロン装置

得られる効果とは

  • 刃物や各種部品の滑り性(低摩擦)向上 【テフロン】
  • ポリマー材料に対する離型性の向上 【テフロン】
  • 有機・無機絶縁物質他、金属、グラファイト等の成膜及びその膜特性による効果

装置仕様

装置仕様
サイズ W 2,600mm
D 1,500mm
H 1,900mm
質量 約1,250kg
使用ガス Ar
処理温度 50℃

応用例

本装置によりガラス基板上に成膜されたテフロンモノマー薄膜(上)と通常の純テフロン板(下)である。
それぞれに水滴を滴下した場合、撥水性を示す水滴の接触角は、本装置により成膜されたテフロンモノマー薄膜の方が高いことが分かる。
テフロンモノマー薄膜は化学的、温度的にも安定であり、摩擦係数が低いことから応用範囲も広い。
ポリマー材料に対する離型性に優れ、光金型の離型剤としての役割を果たす。

テフロンモノマー薄膜

テフロンモノマー薄膜
(当社装置)

テフロン板

テフロン板

テフロン薄膜の濡れ性と応用例

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製品に関するお問い合わせ

新明和工業株式会社産機システム事業部PB部

TEL : (0798)-54-1880

FAX : (0798)-54-1805

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